超纯水是指经过特殊处理，达到非常高纯度的水。它通常被用于需要非常低杂质含量的科学实验、半导体制造、制药和电力行业等领域。随着半导体器件尺寸的不断缩小，对超纯水的纯度要求也日益提高。微小的杂质可能会影响器件的性能和可靠性。因此，在半导体制造过程中所使用的超纯水必须经过严格的净化处理，以确保其电阻率（或者电导率）达到18.2 MΩ·cm以上，并且电导率低于0.055 μS/cm。此外，生产和使用超纯水还须遵循严格的控制程序，以防止二次污染。以保证最终产品的质量和性能，以下是超纯水在半导体制造中的一些具体用途。

1.清洗：在半导体制造过程中，需要多次清洗晶圆（硅片），以去除其表面的微粒、有机物、金属离子和其他污染物。超纯水因为其杂质含量极低，是清洗的理想介质，能够有效去除这些污染物，以防止它们对器件性能产生影响。

2.湿法蚀刻：在湿法蚀刻过程中，超纯水作为稀释剂或反应介质，用于控制蚀刻速率和选择性，确保蚀刻过程的均匀性和精确性。

3.化学机械抛光：化学机械抛光过程中，使用超纯水来稀释抛光剂，并清洗晶圆表面，以去除抛光过程中产生的磨料和污染物。

4.离子注入：在进行离子注入时，需要使用超纯水清洗晶圆，以去除注入过程中产生的残留物，确保注入的均匀和准确。

5.光刻：光刻工艺中使用超纯水清洗光刻胶和晶圆表面，去除残留的光刻胶和污染物，以确保光刻图案清晰和精确。

6.湿法检测：湿法检测使用超纯水来测试晶圆的电性能，以确保其符合设计规格。

7.湿法去膜：在某些工艺步骤中，需要除去晶圆表面的一些薄膜，采用湿法去膜的方法，使用超纯水作为去膜剂，以去除这些薄膜而不引入新的污染物。

8.湿法清洗设备：是指在半导体制造设备的维护和清洗过程中，采用超纯水清洗设备内部，以去除残留的化学品和微粒，预防设备污染。